- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
8英寸晶圓烤膠機主要用于半導體制造中的光刻工藝，具體應用領域和作用如下：
應用領域：
半導體制造：用于光刻膠的烘烤，確保圖案轉移的精que性。
微電子機械系統(tǒng)（MEMS）：在MEMS器件制造中，用于光刻膠的固化。
光電子器件：在激光器、探測器等器件制造中，用于光刻膠處理。
平板顯示：在液晶和OLED顯示面板制造中，用于光刻膠烘烤。
作用：
去除溶劑：通過加熱蒸發(fā)光刻膠中的溶劑，增強附著力。
提高穩(wěn)定性：固化光刻膠，提升其在后續(xù)工藝中的穩(wěn)定性。
優(yōu)化圖形轉移：確保光刻膠均勻烘烤，提高圖案轉移精度。
增強抗蝕性：提升光刻膠在刻蝕和離子注入中的抗蝕能力。
主要特點：
均勻加熱：確保晶圓表面溫度均勻。
精que控溫：溫度控制精度高，適應不同工藝需求。
高效生產(chǎn)：支持多片晶圓同時處理，提升效率。
總結：8英寸晶圓烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉移的jingzun性和工藝穩(wěn)定性。
8英寸晶圓烤膠機技術參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
8英寸晶圓烤膠機 |
|
產(chǎn)品型號 |
CY-HP200 |
|
加熱面板尺寸 |
340mm*340mm方形 |
|
電源輸入 |
AC220V,3400W |
|
控溫范圍 |
室溫-300°C |
|
溫度分辨率 |
0.1℃ |
|
控溫精度 |
士0.2°C |
|
溫度均勻性 |
2% |
|
電動頂針調節(jié)高度 |
0-30mm |
|
頂針高度分辨率 |
0.1mm |
|
真空接口 |
設備后板出口外徑6mm |
|
真空輸入要求 |
0.04~0.09Mpa |
|
控制系統(tǒng) |
觸摸屏操作,**PLC控制 |
|
設備重量 |
10kg |
|
設備尺寸 |
388*366*250mm |
