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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSZ254-II-DCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備,廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術,通過磁場增強離子化效率,從而實現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積。
詳情介紹:
磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備,廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術,通過磁場增強離子化效率,從而實現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積。

磁控濺射鍍膜儀產(chǎn)品特點:

?    高效鍍膜:采用磁控濺射技術,沉積速率高,薄膜均勻性好。
?    多功能應用:支持多種靶材和基材,適用于不同材料的薄膜沉積。
?    智能控制:配備先進的控制系統(tǒng),實現(xiàn)精準的工藝參數(shù)控制。
?    模塊化設計:方便維護和升級,可根據(jù)需求定制各種功能模塊。

?    環(huán)境友好:低能耗設計,減少對環(huán)境的影響。

磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù):

參數(shù)名稱

參數(shù)說明

產(chǎn)品名稱

桌面型前開門雙靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-MSZ254-II-DCRF-SS

真空腔

腔體材質(zhì)

304不銹鋼焊接而成,表面做拋光處理

取放模式

前開門方式取放樣品和靶材

觀察窗

直徑100mm真空窗口,配有磁力擋板,防止污染

樣品臺

樣品尺寸

直徑≦100mm的平面樣品均可

旋轉(zhuǎn)速度

不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型(0-30RPM)可選

加熱溫度

RT-500;RT-800;RT-1000℃可選

磁控靶

靶槍類型

普通永磁靶,可調(diào)角度

靶材尺寸

直徑2英寸,厚度≦3mm,

濺射功率

300W

濺射方式

直流濺射

工作真空

0.3-3Pa

電源

直流電源 300W *2

濺射氣體

高純氬氣,純度99.99%

真空測量

復合真空計,電阻規(guī)+電離規(guī),測量范圍:105-10-5Pa

真空獲取

前級泵

抽速 1.1L/S

分子泵

抽速  600L/S

膜厚測量

通常配CYKY膜厚測量儀

也可選配進口品牌,價格額外計算

外形尺寸

550mm*350mm*450mm

包裝尺寸

770×720*730mm

包裝重量

110 KG

豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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