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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSZ254-II-DC-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備
詳情介紹:

本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備。 本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設(shè)計真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實驗室使用。同時設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

應(yīng)用領(lǐng)域:

本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-MSZ254-II-DC-SS

樣品臺

外形尺寸

φ100mm

可調(diào)轉(zhuǎn)速

≦20rpm

磁控靶槍

配兩支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ254mm X 300mm

觀察窗口

前置式

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

上蓋開啟及前開門

真空系統(tǒng)

前級泵

雙極旋片泵

分子泵

大抽速渦輪分子泵

真空測量

復(fù)合真空計,量程:10-5~105Pa

抽氣接口

ISO63

排氣接口

KF16

系統(tǒng)真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

前級泵抽速1.1L/s 

輸出功率

直流電源500W

其他參數(shù)

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

2kW

整機(jī)尺寸

710*480*580

豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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